真空アーク蒸着法によりSi基板上に作製したNd-Fe-B系磁石膜の磁気特性と機械的性質

カテゴリ: 部門大会

論文No: 3-C-p1-2

グループ名: 【A】令和3年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2021/09/01

著者名: 堀川 誉（長崎大学）, 日笠山 航也（長崎大学）, 山下 昂洋（長崎大学）, 柳井 武志（長崎大学）, 中野 正基（長崎大学）, 福永 博俊（長崎大学）

キーワード: 真空アーク蒸着法|Nd-Fe-B|MEMS|Si基板|磁気特性|機械的性質

要約(日本語): Si基板上に作製したNd-Fe-B系厚膜磁石をMEMSに応用する研究が様々報告される中,本研究室では,PLD法を用いた上記の厚膜磁石の作製を検討してきた。その際,500 nm厚熱酸化膜付きSi基板上の厚膜磁石において,(1)Nd含有量が各試料の破壊現象に影響を及ぼす,(2)その破壊現象として,基板との密着性が強くSi基板内部より破壊する現象が見られるなどの,他のスパッタリング法などでは報告されていない特有の現象が観察されている。本研究では,PLD法と同様,比較的速い成膜速度を実現可能な真空アーク蒸着法によるSi基板上へのNd-Fe-B系厚膜磁石を作製し,PLD法で得られた結果・知見と比較検討した。

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