細胞への電気穿孔を目的とした大気圧He/N2グロー放電における印加電圧依存性の数値解析

カテゴリ: 部門大会

論文No: 13-D-p1-5

グループ名: 【A】令和4年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2022/08/30

著者名: 佐々木 瞬(千葉工業大学), 藤田 諒(千葉工業大学), 山内 翔太(東京都立大学), 内田 諭(東京都立大学), 立花 孝介(大分大学), 小田 昭紀(千葉工業大学)

キーワード: シミュレーション|大気圧プラズマ|低温プラズマ|プラズマバイオ

要約(日本語): 大気圧グロー放電を通じて生成された低温プラズマによる, 医療効果が新しい応用技術として注目されている。そのようなプラズマの医療効果には, ラジカルが重要であることが知られている。しかし一方で, プラズマの電気的性質が生体に及ぼす影響に関しては, 電気穿孔を生じさせる以外は未解明な部分が多い。そこで本研究では, プラズマと細胞を連成した数値解析モデルを用いて, 大気圧He/N2グロー放電における印加電圧の変化が, 細胞へ及ぼす影響を数値解析した。解析結果としては, 印加電圧の増加に伴って膜に流れる電流が増加したため, 電気穿孔に必要な条件に近づくと考えられた。

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