PLD法の直接基板加熱成膜によって作製した異方性Nd-Fe-B系磁石膜

カテゴリ: 部門大会

論文No: 14-C-p1-5

グループ名: 【A】令和4年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2022/08/30

著者名: 山下 昂洋(長崎大学), 花田 真一郎(長崎大学), 柳井 武志(長崎大学), 中野 正基(長崎大学), 福永 博俊(長崎大学)

キーワード: 異方性磁石|PLD法|Nd-Fe-B

要約(日本語): 本研究は,金属基板へ直流電流を通電し発生するジュール熱を利用した,直接基板加熱成膜をPLD法に用いて異方性Nd-Fe-B系磁石膜の作製を試みた。電流値を変化させることで基板温度を制御し,Nd-Fe-B系磁石膜の磁気特性や結晶構造に与える影響を検討した。加えて,成膜時間の変化によりNd-Fe-B系磁石膜の膜厚を変化させ,結晶構造や保磁力,残留磁気分極比といった磁気特性に与える影響も観察した。具体的には,膜厚が薄くなるにつれて保磁力や残留磁気分極比が増加する傾向が得られた。

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