Nd:YAGレーザーを用いたPLD法によるIBADテープ上へのBHO添加YBCOエピタキシャル薄膜の作製に関する研究

カテゴリ: 部門大会

論文No: 7-D-a1-2

グループ名: 【A】令和5年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2023/08/24

著者名: 大山 航平(愛知工業大学)，田岡 紀之(愛知工業大学)，清家 善之(愛知工業大学)，森 竜雄(愛知工業大学)，一野 祐亮(愛知工業大学)

キーワード: 超伝導|YBCO|Nd:YAGレーザー|エピタキシャル成長|超伝導線材|薄膜

要約(日本語): 超伝導体の応用の多くは、超伝導線材による超伝導電磁石である。そのため、柔軟な金属テープの上にYBCOをエピタキシャル成長させることが行われている。YBCO超伝導線材の作製には希ガスを使用するエキシマレーザーが主に使われている。しかし、希ガスは産出国が限られており、地政学的な影響を強く受ける。また、強力な超伝導電磁石を開発するためには,YBCO超伝導線材の磁場中におけるJcの向上が必要である。そこでYBCO薄膜内にBaHfO₃ (BHO)を添加することでBHOがナノロッド状に自己組織化し、量子化磁束の人工ピンニングセンターになり、磁場中Jcが向上する。以上から、希ガスを用いないNd:YAGレーザーを使用して、BHO添加YBCOエピタキシャル薄膜を作製する検討を行った。

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