パルス幅変化により生成した窒素プラズマ照射によるシリコーン表面窒化特性

カテゴリ: 部門大会

論文No: 7-P1-E-1

グループ名: 【A】令和5年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2023/08/24

著者名: 山口 雄也(近畿大学)，稲葉 良太(近畿大学)，松谷 貴臣(近畿大学)

キーワード: E-TEM|プラズマ|TEM|SiCN|パルス幅|X線光電子分光法(XPS)

要約(日本語): 環境セル型透過電子顕微鏡用隔膜の開発を目的に、軽元素で構成され、耐圧性、薄膜性、平坦性、非結晶を有するアモルファス窒炭化ケイ素(a-SiCN)膜をシリコーンレジンのプラズマ表面窒化改質により作製した。パルスパラメーターを変化させ、生成した水素、窒素プラズマの順に照射し、作製したシリコーンレジンの表面改質層の成分比をX線光電子分光法(X-ray Photoelectron Spectroscope: XPS)により評価した。結果として、パルス幅を変化させることで窒化が促進された。これは上側電極を下側電極より長い時間照射することでイオンの衝突が活発化し、窒素ガスの反応が促進され、窒化改質されたと考えられる。

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