同軸プラズマガンによるアルミニウムの成膜

カテゴリ: 部門大会

論文No: 7-P2-B-5

グループ名: 【A】令和5年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2023/08/24

著者名: 五木田 太一(日本大学)，小林 大地(日本大学)，相良 拓也(都立産技高専)，胡桃 聡(日本大学)，浅井 朋彦(日本大学)，松田 健一(日本大学)，鈴木 薫(日本大学)

キーワード: 同軸プラズマガン|プラズマ|アルミニウム|薄膜

要約(日本語): 同軸プラズマガンは数十kA以上の大電流により、高融点の電極であってもイオン化できる。また、自己誘起磁場と半径方向電流による電磁力で基板に打ち込むことが可能である。この成膜方法は任意のタイミングで任意の金属をスパッタリングすることができるため、複数の融点の異なる金属電極を用いた同軸プラズマガンによる同時的な合金化や時間差照射による傾斜組成の成膜などが期待できる。今回は低融点で比較的プラズマ化させやすいアルミニウムをターゲットとしてシリコン基板上に堆積させた。同軸プラズマガンの放電電圧と放電回数を変え、シリコン基板上にアルミニウムがどのように堆積されるかを膜厚測定やSEM/EDSなどによる定性分析結果について報告する。

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