キャビテーションプラズマ発生に及ぼすパルス電圧の高繰り返し化の影響

カテゴリ: 部門大会

論文No: 9-C-a1-4

グループ名: 【A】令和5年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2023/08/24

著者名: 中原 健太(兵庫県立大学)，岡田 翔(兵庫県立大学)，岡 好浩(兵庫県立大学)，上野 秀樹(兵庫県立大学)

キーワード: 液中プラズマ|キャビテーションプラズマ|溶液導電率|繰り返し周波数

要約(日本語): キャビテーションプラズマ法は、減圧沸騰現象を用いて液中に気泡を発生させることによって、効率よく低温プラズマを生成することができる手法である。しかしながら、導電率が高い溶液において、電圧の低下によるプラズマ発生率の低下が課題である。これまでに、未放電の状態から連続放電状態への起点が増加することによってプラズマ発生率が向上することがわかっている。起点数はパルス電圧の繰り返し周波数に依存するため、プラズマ発生率に及ぼす繰り返し周波数の影響を調査した。プラズマ発生率は、50 kHzのとき0.15 %であり、繰り返し周波数の2.55 乗に比例して増加し、300 kHzのとき15 %であった。

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