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【招待講演】高性能電気光学ポリマーの開発と超高周波電場検出への応用

【招待講演】高性能電気光学ポリマーの開発と超高周波電場検出への応用

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 2-G-a1-8

グループ名: 【A】令和6年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2024/08/26

著者名: 山田 俊樹(情報通信研究機構), 梶 貴博(情報通信研究機構), 大友 明(情報通信研究機構)

キーワード: 電気光学ポリマー|テラヘルツ波検出|シュタルク効果|電気光学効果|電気光学ポリマー転写技術|電気光学ポリマー自立膜・積層膜

要約(日本語): 本講演では高性能電気光学色素開発、耐熱性の高い高性能電気光学ポリマー開発について述べたあと、電気光学ポリマーのテラヘルツ応用へ向けて開発した電気ポリマー転写技術、電気光学ポリマーフリースタンディング膜・積層膜の新規作製技術について述べる。更に、電気光学ポリマーのシュタルク効果を利用したテラヘルツ波検出方法と電気光学効果を利用したテラヘルツ波検出方法の2つの方法について述べる。

PDFファイルサイズ: 409 Kバイト

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