環境セル型透過電子顕微鏡用隔膜作製のためのN2-H2プラズマ照射によるシリコーンポリマー表面窒化処理

カテゴリ: 部門大会

論文No: 2-P1-1

グループ名: 【A】令和６年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2024/08/26

著者名: 山口 雄也(近畿大学), 松谷 貴臣(近畿大学)

キーワード: E-TEM|プラズマ|a-SiCN|X線光電子分光法(XPS)|パルス幅|表面改質

要約(日本語): 環境セル型透過電子顕微鏡用隔膜の開発として、軽元素で構成され、耐圧性、薄膜性、平坦性、非結晶を有するアモルファス窒炭化ケイ素(a-SiCN)膜に着目した。シリコーンポリマー膜にN2-H2ガス流量比を変化させたプラズマを照射し、未改質の部分を有機溶媒で除去し、極薄の隔膜を作製した。各試料の成分比をX線光電子分光法により評価した結果、水素の流量比1:4まで増加させて生成したN2-H2プラズマを照射することで窒化が促進された。これはプラズマ中の水素イオンの増加に伴い、窒素のイオン化が促進され、また水素イオンがシリコーン表面に衝突することで活性化したためであると考えられる。

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