ゲル状電解質からの軟磁性Ni成膜プロセスに関する検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: 2-P1-18

グループ名: 【A】令和６年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2024/08/26

著者名: 松本 裕介(長崎大学), 柳井 武志(長崎大学), 白木 紘太(長崎大学), 山下 昂洋(長崎大学), 中野 正基(長崎大学), 福永 博俊(長崎大学)

キーワード: 軟磁性膜|電解めっき|ゲル電解質

要約(日本語): 本研究室では,これまでに電解めっき法を用いた軟磁性膜に関して様々な報告を行ってきた。最近では,SDGsに代表される環境への配慮から,優れた磁気特性を有する軟磁性膜の開発と並行して,環境負荷の低減,具体的には廃液低減を目的としたゲル状電解質からの磁性めっき膜創製に関して検討を進めている。本研究では,軟磁性Ni膜のゲルめっきプロセスに着目し,成膜条件が各種膜特性に与える影響を検討した。その結果,電流効率の高いめっき条件を適用することで,飽和磁化の高い材料創製に有利である可能性が確認できた。

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