キャビテーションプラズマ処理水における持続的なOHラジカル生成要因の検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: 2-P1-2

グループ名: 【A】令和６年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2024/08/26

著者名: 川野 宏太朗(兵庫県立大学), 貫名 沙紀(兵庫県立大学), 江口 佳吾(兵庫県立大学), 日下部 蓮太郎(兵庫県立大学), 澁谷 直也(兵庫県立大学), 岡 好浩(兵庫県立大学)

キーワード: 液中プラズマ|キャビテーションプラズマ処理水|過酸化水素|金属ナノ粒子|金属イオン|OHラジカル

要約(日本語): 液中プラズマの一種であるキャビテーションプラズマによって処理されたキャビテーションプラズマ処理水には過酸化水素および電極消耗に起因するW成分が含まれており、OHラジカルが持続的に生成されることが確認されている。また、OHラジカル生成量および過酸化水素濃度は経時的に減少することも判明している。このことから、過酸化水素とW成分の反応に起因してOHラジカルが生成されていると考えているが、詳細は明らかになっていない。本報告では、長期保管後に過酸化水素を添加した処理水のOHラジカル生成量を化学プローブ法を用いて評価し、作製直後の処理水と比較検討した結果について述べる。

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