マグネトロンスパッタ法を用いた酸化バナジウム薄膜の作製と評価

カテゴリ: 部門大会

論文No: 2-P1-24

グループ名: 【A】令和６年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2024/08/26

著者名: 竹内 廉(鈴鹿工業高専), 堀場 太智(鈴鹿工業高専), 横山 春喜(鈴鹿工業高専)

キーワード: 二酸化バナジウム|相転移|マグネトロンスパッタ

要約(日本語): マグネトロンスパッタ法を用いて酸化バナジウム薄膜の作製を行った.基板にはガラスを用い,ターゲットには二酸化バナジウムを用いた.Arガス流量10sccm,圧力0.12Paの条件下で4時間のスパッタを行った.その後,Arガス雰囲気中,200Paの減圧力下,500℃で1時間の熱処理を行った.作製したサンプルの抵抗率の温度変化をVan der Pauw法を用いて測定した結果,相転移が原因と思われる急激な変化が70℃付近で観測された.さらに,X線回折法を用いた結晶構造評価から、熱処理を行うことで結晶化が促進され、VO2を含む薄膜が形成されることが分かった.

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