アニール処理したアノード酸化ニオブの光触媒特性に対する窒素イオン照射量依存性

カテゴリ: 部門大会

論文No: 2-P1-32

グループ名: 【A】令和６年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2024/08/26

著者名: 池谷 優之(工学院大学), 阿相 英孝(工学院大学), 鷹野 一朗(工学院大学)

キーワード: 酸化ニオブ|光触媒|イオン注入

要約(日本語): TiやTaなどの酸化物を中心に光触媒材料の研究が行われており,新たな光触媒材料としてNbにも注目が集まっている。しかし,可視光下では光触媒効果が発揮されないため吸収波長領域の拡大が課題である。_x000D_ 吸収波長を拡大させるための一つの方法として,窒素などの不純物を添加することで,バンドギャップ内に不純物準位を形成し, 可視光応答を可能にする方法がある。本研究では照射時間と電流密度から照射量の制御が可能なイオン注入法を用いて窒素の添加を行った。酸化ニオブは短時間で表面処理が可能であるアノード酸化法を用いて作製,アニール処理を行い結晶化した後、 N2+イオンビーム照射の照射量を変化して光触媒効果に対する依存性を調査した。

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