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高電界パルスを印加した細胞へのCaイオン流入に関する研究

高電界パルスを印加した細胞へのCaイオン流入に関する研究

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 4-F-a2-3

グループ名: 【A】令和6年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日: 2024/08/26

著者名: 雪山 拓海(熊本大学), 勝木 淳(熊本大学), 藤田 海斗(熊本大学)

キーワード: electroporation|GUV|membrane potential

要約(日本語): エレクトロポレーションとは、高電界パルスを用いて物理的かつ非加熱的に細胞膜を損傷して物質輸送を誘導する手法のことで、遺伝子導入など幅広い分野で用いられている。しかし、エレクトロポレーションの詳しいメカニズムは解明されていない。その理由として、物質輸送に関わるパラメータが多く、理論と実験結果の比較が困難であることが挙げられる。そこで我々は膜電位を付与した人工細胞を用いてCaイオン流入を行い、エレクトロポレーションの動態を確認した。人工細胞では生化学的要因による物質輸送を無視することができるため、物理的要因による物質輸送に絞った解析が可能となる。結果として、パルス幅の違いが膜電位に大きく影響を及ぼすことが判明した。

PDFファイルサイズ: 483 Kバイト

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