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DLC成膜用低圧高周波C2H2プラズマ基礎特性の数値解析

DLC成膜用低圧高周波C2H2プラズマ基礎特性の数値解析

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カテゴリ:部門大会

論文No:3-P1-12

グループ名:【A】令和7年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日:2025/8/27

タイトル(英語):

著者名:佐藤 瑞起(千葉工業大学),小田 昭紀(千葉工業大学)

著者名(英語):

キーワード:シミュレーション,低圧プラズマ,プラズマCVD,ダイヤモンドライクカーボン

要約(日本語):ダイヤモンドライクカーボン(DLC)は優れた機械的特性から幅広い分野でコーティングに用いられている。特に、炭化水素ガスを用いたプラズマCVD法によって成膜されるDLCは膜の均一性から電子部品や機械摺動部などに利用されている。そして、その需要は年々拡大し成膜技術の更なる向上が求められている。成膜技術向上に向けた研究は、成膜手法や膜質に着目したものが多く、成膜前駆体を供給するプラズマに着目した研究は少ない。そこで本研究では、成膜条件最適化に向けたプラズマの最適制御を目的とし、空間1次元流体モデルによるC2H2プラズマのシミュレーションを行い、入力電力や圧力などの実験外部パラメータが本プラズマ基礎特性に及ぼす影響の解析を行ったので報告する。

PDFファイルサイズ:290Kバイト

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