酸化チタン成膜用大電力パルスマグネトロンスパッタリングプラズマ基礎特性の数値解析

カテゴリ：部門大会

論文No：3-P1-15

グループ名：【A】令和７年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日：2025/8/27

タイトル(英語)：

著者名：阿部 元暉(千葉工業大学)，太田 貴之(名城大学)，小田 昭紀(千葉工業大学)

著者名(英語)：

キーワード：大電力パルススパッタリング,HiPIMS,酸化チタン,シミュレーション

要約(日本語)：大電力パルスマグネトロンスパッタリング(High Power Impulse Magnetron Sputtering; HiPIMS)は, 従来のスパッタリング法に比べ, 数kW cm-2の大電力を瞬間的(μsスケール)に供給することで高いイオン化率が実現可能な成膜手法である. しかし, HiPIMSに関する研究の多くが成膜された膜に着目した内容となっており, 成膜手法であるHiPIMSプラズマに着目した内容が非常に少ない. そこで本報告では, 高屈折材料である酸化チタンの成膜に用いられるHiPIMSプラズマの空間0次元モデルを構築し, ターゲット電圧に着目した解析を行ったので,その結果を報告する.

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