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シングルドット・ネオジム系マイクロ磁石の基礎特性
シングルドット・ネオジム系マイクロ磁石の基礎特性
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カテゴリ:部門大会
論文No:3-P1-23
グループ名:【A】令和7年電気学会基礎・材料・共通部門大会
発行日:2025/8/27
タイトル(英語):
著者名:網屋 拓輝(長崎大学),田原 楽飛(長崎大学),山下 昂洋(長崎大学),柳井 武志(長崎大学),中野 正基(長崎大学),福永 博俊(長崎大学)
著者名(英語):
キーワード:LIFT法,マイクロ磁石,シングルドット,組成転写性
要約(日本語):本研究室ではPLD法により数10 μm厚以上のマイクロ磁石を作製してきたが,硬磁気特性を得るには,基板加熱やポストアニーリングにより500 ℃以上の高温熱処理が必要であった。最近,我々は熱処理を必要とせず数100 kA/mの保磁力を持つマイクロ磁石(マルチドット)をLIFT法(レーザー誘起前方転写法)で作製できることを見出した。本研究では,シングルドットのマイクロ磁石を用い,磁気特性や組成転写性等を系統的に調査し,マイクロ磁石の基礎特性を検討したので報告する。
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