低温PE-ALDによる酸化プラチナ極薄膜の抵抗率低減の試み

カテゴリ：部門大会

論文No：3-P1-47

グループ名：【A】令和７年電気学会基礎・材料・共通部門大会

発行日：2025/8/27

タイトル(英語)：

著者名：佐藤 直幸(茨城大学)，相澤 憲太(茨城大学)，小口 治久(産業技術総合研究所)，板谷 太郎(産業技術総合研究所)

著者名(英語)：

キーワード：プラズマ,原子層堆積(ALD),プラチナ,極薄膜,抵抗率

要約(日本語)：より忠実な高倍率SEM観察に向けて,導電性極薄膜のコーティング前処理が必須である.しかしながら,厚さ20 nm程度以下の金属や酸化金属の薄膜においては,急激な抵抗率の上昇を示すため,最近ではスパッタやCVDと並行して,ALD(原子層堆積)法を用いた極薄の成膜が行われている.しかしながら,更なる抵抗率の低下には,100℃以上の基材加熱が必須であり,被試料変形が問題となる.本研究開発では,被試料物性の選択度を高めるため,基材加熱を行わない低温プラズマ増強型のALD法を用いている.その結果,酸化プラチナ薄膜をSiウェハ上に低温で合成しても極薄膜において抵抗率低下の傾向が観察された.今回は,貴学会初めての講演申し込みであり,準備的実験状況を報告する.

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