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温度・圧力が異なる2領域を有する高温SF6ガス中の電子なだれ進展過程の解析的検討

温度・圧力が異なる2領域を有する高温SF6ガス中の電子なだれ進展過程の解析的検討

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 280

グループ名: 【B】令和2年電気学会電力・エネルギー部門大会

発行日: 2020/08/28

タイトル(英語): Analytical Consideration of Electron Avalanche in High-temperature SF6 Gas with Two Regions with Different Temperature and Pressure Conditions

著者名: 黒田真未(日立製作所),浦井一(日立製作所),寺田将直(日立製作所,名古屋大学),横水康伸(名古屋大学)

著者名(英語): Mami Kuroda (Hitachi, Ltd.), Hajime Urai (Hitachi, Ltd.), Masanao Terada (Hitachi, Ltd., Nagoya University), Yasunobu Yokomizu (Nagoya University)

キーワード: ガス遮断器|SF6ガス|電子なだれ|gas circuit breaker|SF6 gas|electric avalanche

要約(日本語): 温度・圧力が異なる極間の条件における絶縁破壊現象を明らかにすることは,遮断器の設計にとって重要である。本研究の目的は,1次元ガス空間において,高温・低圧と低温・高圧の2領域の条件における,絶縁耐力を相対的に評価することである。外部電界が与えたガス空間での,電子なだれの時間発展を移流拡散方程式を用いて計算した。計算から,高温・低圧の臨界電界以上且つある電界までは,電子付着反応により低温・高圧領域に高密度の電子が侵入できないことがわかった。高温・低圧ガス領域の臨界電界以上の電界を与えても,低温・高圧ガス領域で電子なだれの進展が抑制されることを解析的に評価できた。

PDFファイルサイズ: 461 Kバイト

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