ミストCVD法による光触媒酸化チタンの成膜

カテゴリ: 部門大会

論文No: PS4-5

グループ名: 【C】2022年電気学会電子・情報・システム部門大会

発行日: 2022/08/24

タイトル(英語): Synthesis of Titanium Oxide Films for Photocatalytic Reaction  by Mist Chemical Vapor Deposition

著者名: 鈴木　 誠人（日本大学）,加々山 柊大（日本大学）,鈴木 薫（日本大学）,松田 健一（日本大学）,胡桃 聡（日本大学）

著者名(英語): Masato Suzuki (Graduate School of Science and Technology , Nihon University),Shuta Kagayama (Graduate School of Science and Technology , Nihon University),Kaoru Suzuki (College of Science and Technology , Nihon University),Kenichi Matsuda (College of Science and Technology , Nihon University),Satoshi Kurumi (College of Science and Technology , Nihon University)

キーワード: 酸化チタン|ミストCVD|titanium oxide|mist chemical vapor deposition

要約(日本語): 現在ミスト化学成長（CVD）法は酸化物半導体の安定した成膜方法として注目を浴びている。この方法の特徴は真空を必要とせず,大気圧化で簡単に酸化物半導体の成膜が可能な点である。私たちは3Dプリンターを利用してミストCVD装置の開発を行い,酸化チタンの成膜を試みている。酸化チタンはバンドギャップ（アナターゼ型：3.2 eV ,ルチル型：3.0 eV ）に起因する光吸収によって光触媒反応が生じる。しかしながら吸収波長は紫外線領域の光によるものなので,その高効率化に向けて可視光応答型光材料の開発が求められる。そこで,本稿では開発したミストCVD装置に要る酸化チタンの成膜結果と,可視光応答型に向けた取り組みについて報告する。