超臨界流体を用いたシリコン酸化膜上への銅薄膜直接成膜技術による高アスペクト比ナノ開口構造の埋め込みの実現

カテゴリ: 部門大会

論文No: 01pm1-PS-183

グループ名: 【E】平成30年電気学会センサ・マイクロマシン部門大会

発行日: 2018/10/23

著者名: 宇佐美 尚人（東京大学）, 肥後 昭男（東京大学）, 太田 悦子（東京大学）, 三田 吉郎（東京大学）

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