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三次元DNAオリガミ構造作製におけるアニール条件及びDNA濃度比の影響

三次元DNAオリガミ構造作製におけるアニール条件及びDNA濃度比の影響

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 31pm2-PS-164

グループ名: 【E】平成30年電気学会センサ・マイクロマシン部門大会

発行日: 2018/10/23

著者名: 中村 亮太(大阪大学), 原 啓太(大阪大学), 有馬(大阪大学) , 山村 和也(大阪大学), 田畑 修(京都大学), 川合 健太郎(京都大学)

PDFファイルサイズ: 442 Kバイト

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