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2段階パラメータランピングによる高アスペクト垂直深掘りトレンチの作製

2段階パラメータランピングによる高アスペクト垂直深掘りトレンチの作製

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 19am3-PS3-7

グループ名: 【E】第36回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2019/11/12

タイトル(英語): Fabrication of high-aspect vertical deep trench by two-step parameter ramping

著者名: 栗山 大成(東京大学), ルブラッスール エリック(東京大学), 平川 顕二(東京工業大学), 岩瀬 正幸(東京工業大学), 小笠原 宗博(東京工業大学), 依田 孝(東京工業大学), 三田 吉郎(東京大学)

要約(日本語): 一般に高アスペクト比のシリコン深掘りトレンチを作製する際にはテーパーが付くといった問題が生じやすく、パターンに応じてレシピ最適化が必要となる。これに対する策として、プロセスの進行とともにパラメータを変化させるパラメータランピングが有効であるが、本稿ではこのパラメータランピングを1プロセス中に2段階に渡って行った高アスペクト垂直深掘りトレンチの作製について取り上げる。

要約(英語): We studied two-step parameter ramping for the fabrication of trenches with high aspect and high verticality. In order to solve the tapering problem when fabricating a high-aspect trench, parameter ramping in which parameters are changed as the process progresses is effective. In this paper, the parameter ramping is performed in two steps in one process for further recipe optimization.

PDFファイルサイズ: 699 Kバイト

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