高FQ積を備えたナノメカニカル共振器に向けた架橋グラフェンへの引っ張り歪印加構造の作製

カテゴリ: 部門大会

論文No: 20pm3-LN2-82

グループ名: 【E】第36回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2019/11/12

タイトル(英語): Fabrication of tensile strain applied structure to suspended Graphene for nanomechanical resonator with high FQ product.

著者名: 上坂 淳平, 郷 幸佑, 喜種 慎, 澤田 和明, 高橋 一浩(豊橋技術科学大学)

PDFファイルサイズ: 608 Kバイト