デバイス応用を鑑みた真空アーク蒸着法によるNd-Fe-B系厚膜磁石の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 21pm1-PS3-10

グループ名: 【E】第36回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2019/11/12

タイトル(英語): Development of Nd-Fe-B thick film magnet by vacuum arc deposition method in view of device application.

著者名: 井上 直哉(長崎大学), 桃崎 瑞貴(長崎大学), 高嶋 恵佑(長崎大学), 山下 昂洋(長崎大学), 柳井 武志(長崎大学), 中野 正基(長崎大学), 福永 博俊(長崎大学)

要約(日本語): デバイス応用を鑑み真空アーク蒸着法を用いたNd-Fe-B厚膜磁石を作製し,ヒステリシスループの2段化が生じる原因を検討した。試料サイズを拡大した際,基板端部における「試料の変形」や「基板と基板ホルダーの癒着」が顕著になる事を確認し,特に端部が鋭い角基板に傾向が強い事がわかった。また端部のループの2段化が顕著である事を確認した。逆に,中心部を切り出すことにより2段化を抑制できることが明らかとなった。

要約(英語): Fundamental investigation on the application of Nd-Fe-B films prepared using a vacuum arc deposition to a miniaturized device was carried out. We clarified that each edge of the circular and square substrates leads to the deterioration of magnetic properties such as the knick of a hysteresis loop.

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