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反応性スパッタリング法によるCTRサーミスタ用VO2薄膜の作製と評価

反応性スパッタリング法によるCTRサーミスタ用VO2薄膜の作製と評価

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 21pm1-PS3-26

グループ名: 【E】第36回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2019/11/12

タイトル(英語): Fabrication and evaluation of VO2 films for CTR thermistors by reactive sputtering

著者名: 松岡 耕平(アルバック), 露木 達朗(アルバック), 小林 宏樹(アルバック), 木村 勲(アルバック), 神保 武人(アルバック), 鄒 弘綱(アルバック)

PDFファイルサイズ: 757 Kバイト

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