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ISFETsのpH感度に影響するタンタルオキサイドゲート表面の化学的機能化

ISFETsのpH感度に影響するタンタルオキサイドゲート表面の化学的機能化

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 21pm1-PS3-43

グループ名: 【E】第36回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2019/11/12

タイトル(英語): Chemical functionalization of tantalum oxide on gate surface effecting to pH sensitivity of ISFETs

著者名: カムヘンリト チャッタリカ(東京医科歯科大学), 田畑 美幸(東京医科歯科大学),合田 達郎(東京医科歯科大学), 松元 亮(東京医科歯科大学), 宮原 裕二(東京医科歯科大学)

PDFファイルサイズ: 596 Kバイト

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