円筒面上の厚膜レジストリソグラフィとNi電鋳を用いた能動カテーテルの外骨格型バイアス機構の一括形成

カテゴリ: 部門大会

論文No: 26P2-SS1-3

グループ名: 【E】第37回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2020/10/19

タイトル(英語): Batch fabrication of exoskeleton bias mechanism of active catheter using thick-resist lithography and Ni electro-plating on cylindrical surface

著者名: bin Muhamad Sanuzi Nur Shauqil Amin(山形大学), 峯田 貴(山形大学)

要約(日本語): 形状記憶合金(SMA) 能動カテーテル上へ外骨格状にバイアス機構を作り込むために、UVレーザー描画による低温での円筒リソグラフィとNi電鋳を用い、1mm径の円筒面上へバイアスばね、電極、絶縁固定部を形成する手法を開発した。20μm厚のネガ型SU-8とポジ型OFPRレジストを10-100μm幅でパターニングでき、レジストとめっき構造体を組み合わせて良好にバイアス機構を一括形成する手法を確立した。

要約(英語): To add an exoskeleton bias mechanism on SMA active catheter, batch fabrication process based on a low temperature lithography with UV-laser drawing and Ni electroplating on a 1-mm-diameter cylindrical surface was developed. 20-μm-thick SU-8 and positive resist patterns with width of 10-100 μm were formed. Cylindrical bias mechanism was successfully batch fabricated with combination of the resist and electroplated structures.

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