エピタキシャル加工を用いた可視光イメージセンサ用光ガイド構造の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 10P3-SSP-15

グループ名: 【E】第38回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2021/11/02

著者名: 藤原 知弘（立命館大学）, Ngo Hoai Nguyen（立命館大学），安藤 妙子（立命館大学）, 下ノ村 和弘（立命館大学）, 江藤 剛治（立命館大学）

キーワード: エピタキシャル加工|光ガイド構造|可視光イメージセンサ|裏面照射型イメージセンサ|超高速イメージセンサ

要約(日本語): 本論文では,イメージセンサの集光効率向上のために新たな構造を提案する.この構造は受光部で光電変換し,電子をセンサに収集する,逆ピラミッド型の光ガイド構造と呼ばれる構造である.またその構造を作製するためにエピタキシャル加工を用いるということを提案し,シリコンの微細加工により光ガイド構造が作製できるということを確認した.

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