MEMS応用に向けたNd-Fe-B系厚膜磁石の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 10P3-SSP-22

グループ名: 【E】第38回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2021/11/02

著者名: 樋口 晃太（長崎大学）, 福田 樹（長崎大学）, 高嶋 恵佑（長崎大学）, 山下 昴洋（長崎大学）, 柳井 武（長崎大学）, 中野 正基（長崎大学）, 福永 博俊（長崎大学）, 進士 忠彦（東京工業大学）

キーワード: 厚膜磁石|MEMS|PLD法|Nd-Fe-B系磁石膜|ガラス下地層

要約(日本語): 本論文では,MEMS応用を鑑みたPLD法でのNd-Fe-B系磁石膜の開発について,磁気特性の向上に有効な磁石膜厚の増加,マイクロ着磁に着目する。基板と磁石膜の界面のNd-rich層Nd-Fe-B相やガラス下地層の人工的な挿入,Nd含有量を11～16 at.%まで低減し,残留磁気分極や(BH)maxの向上実現した結果を報告する。

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