分子インプリント法を用いた光干渉型MEMS表面応力センサの作製とレセプター膜のパターニング

カテゴリ: 部門大会

論文No: 11A3-SS1-5

グループ名: 【E】第38回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2021/11/02

著者名: 阪上 天斗（豊橋技術科学大学）, 太田 宏之（防衛医科大学）, 藤枝 俊宜（東京工業大学）, 崔 容俊（豊橋技術科学大学）, 野田 俊彦（豊橋技術科学大学）, 澤田 和明（豊橋技術科学大学）, 髙橋 一浩（豊橋技術科学大学）

キーワード: 表面応力センサ|ファブリ・ペロー干渉計|分子インプリンティング|電界重合|神経伝達物質

要約(日本語): 本研究では,複数の神経伝達物質を検出するために同一チップ内に異なる組成のMIP膜を備えた光干渉型MEMS表面応力センサの作製を目的とした.MIP膜は,電極のパターン化によりDA鋳型を形成したPpy膜とPpyのみの膜を形成した.DAを10 μM滴下時の反射スペクトルシフトは鋳型を形成したPpy膜でのみ得られた.上記の結果から,電極のパターン化によるレセプター膜の塗分けが可能であり,MIP膜が非標識神経伝達物質を検出できることが示唆された.

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