Si基板上における強磁性NdFeBと圧電PZTのヘテロ集積

カテゴリ: 部門大会

論文No: 11A3-SS2-5

グループ名: 【E】第38回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2021/11/02

著者名: 武田 光平（兵庫県立大学）, 七里 愛（兵庫県立大学）, 神田 健介（兵庫県立大学）, 藤田 孝之（兵庫県立大学）, 前中 一介（兵庫県立大学）

キーワード: 圧電MEMS|PZT|NdFeB|ヘテロ集積|マルチフェロイック

要約(日本語): 圧電ハーベスタにこれまでにない機能を付与するために,強磁性NdFeBと圧電PZTを同一ウエハ上に形成する技術の確立を目指しました.積層評価では拡散バリア層やパッシベーション層がNdFeB上へのPZT形成に必要であることがわかりました.また,実際のMEMSプロセスを想定した評価ではPZT薄膜とNdFeB薄膜をSi上に一体形成・加工することに成功しました.

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