非接触型水晶発振回路式複素容量センサによるフォトリソグラフィ工程の終点検出技術の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 14P5-P-12

グループ名: 【E】第39回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2022/11/07

タイトル(英語): Development of end-point detection technology for photolithography process using non-contact crystal oscillation circuit type complex capacitance sensor

著者名: 奥脇 琢朗(新潟大学), 灰野 貴晶(新潟大学), 寒川 雅之(新潟大学), 安部 隆(新潟大学)

著者名(英語): Okuwaki Takurou(Niigata University), Haino Takaaki(Niigata University), Sohgawa Masayuki(Niigata University), Abe Takashi(Niigata university)

キーワード: 終点検出|ウェットエッチング|フォトリソグラフィ|非接触|水晶センサ|Endpoint detection|Wet etching|Photolithography|Contactless|Quartz sensor

要約(日本語): 本論文では,非接触型水晶発振回路式複素容量センサを用いて,フォトリソグラフィの各々の工程の終点検出やエッチング液の品質管理への応用を試みた.このセンサで,ポジレジスト(OFPR)の現像工程や金(Au)のエッチング工程における加工状況をリアルタイム測定した結果,フォトリソグラフィ全工程のモニタリングに成功した。本研究は,微細加工の自動化への応用が期待される。

要約(英語): In this paper, we attempted to apply a non-contact crystal oscillation circuit type complex capacitance sensor to the endpoint detection of photolithography process and the quality control of etchant. Real-time measurements of the processing status in the posi-resist development process and the gold etching process were successfully performed to monitor the entire photolithography process.

PDFファイルサイズ: 444 Kバイト