反応性スパッタリング法による光導波路用SiCO薄膜における光学的特性,機械的特性のガス圧依存性に関する実験的考察

カテゴリ: 部門大会

論文No: 14P5-P-3

グループ名: 【E】第39回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2022/11/07

タイトル(英語): Experimental consideration on gas pressure dependence of optical and mechanical properties in a SiCO thin film for optical waveguide by reactive sputtering method

著者名: 新國 広幸(東京工業高等専門学校), 高塚 侑(長岡技術科学大学), 伊藤 浩(東京工業高等専門学校)

著者名(英語): Hiroyuki Nikkuni(National Institute of Technology ,Tokyo College), Yu Takatsuka(Nagaoka University of Technology), Hiroshi Ito(National Institute of Technology ,Tokyo College)

キーワード: 光導波路|反応性スパッタリング法|SiCO薄膜|光学的特性|機械的特性|optical waveguide|reactive sputtering method|SiCO film|optical characteristics|mechanical characteristics

要約(日本語): 光導波路用の反応性スパッタSiCO薄膜における光学的特性(透過率,吸収係数,光学バンドギャップ,屈折率),機械的特性(ヤング率,硬さ)等の膜特性のガス圧依存性について実験的に考察した。6%の酸素流量比でガス圧を0.3 ～ 1.0 Paで変化させた薄膜を作製した。ガス圧の増加に伴い,SiCO薄膜の光学バンドギャップが大きくなり SiCO膜の透明性が向上し,一方で屈折率,ヤング率,硬さは低下した。

要約(英語): In this study, the gas pressure dependence of optical and mechanical characteristics in reactive sputtered SiCO thin films for optical guided-wave pressure sensors was experimentally investigated. Thin films were fabricated by varying the gas pressure from 0.3 to 1.0 Pa at an oxygen flow ratio of 6%, and the gas pressure dependences was clarified.

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