ナノギャップデバイスによる真空度測定の検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: 16P2-P-10

グループ名: 【E】第39回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2022/11/07

タイトル(英語): vacuum measurement by the nanogap device

著者名: 小宮 一毅(東京都立産業技術研究センター), 永田 晃基(東京都立産業技術研究センター), 山岡 英彦(東京都立産業技術研究センター), 伊達 修一(東京都立産業技術研究センター), 宮下 惟人(東京都立産業技術研究センター), 楊 明(東京都立大学)

著者名(英語): Kazuki Komiya(Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute), Koki Nagata(Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute), Hidehiko Yamaoka(Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute), Shuichi Date(Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute), Yuito Miyashita(Tokyo Metropolitan Industrial Technology Research Institute), Ming Yang(Tokyo Metropolitan University),

キーワード: ナノギャップ|真空|電子線描画|冷陰極電界放出|真空計|Nanogap|Vacuum|Electron beam lithography|Cold Cathode Field Emission|Vacuum gage

要約(日本語): 微細加工技術の進歩により、電子ビームリソグラフィ装置では、数十ナノメートルオーダーの微細加工が可能になった。この技術を用いギャップ間100 nm、各先端の曲率は50 nmの電極を持つデバイスを試作した。このデバイスは、低電圧で大きな電界を発生させることができる。このデバイスを用い電極電圧3Vで10E-3Paから1Paまで真空度を測定し電離真空計として使用できる可能性を見出した。

要約(英語): Using electron beam lithography technology, we have fabricated a prototype device with electrodes having a gap of 100 nm and a curvature of 50 nm at each tip. This device can generate a large electric field at low voltage. Using this device, we measured vacuum from 10E-3Pa to 1Pa at an electrode voltage of 3V and found that it could be used as an ionization vacuum gauge.

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