F7000S-VD02キャラクタープロジェクション法を用いた12 nm八角形パターンの精密位置制御電子線描画に関する初期検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: 16P2-P-20

グループ名: 【E】第39回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2022/11/07

タイトル(英語): Precise Position-Controlled Electron Beam Writing of 12 nm Octagonal Patterns Using Character Projection Method on F7000S-VD02

著者名: 肥後 昭男(東京大学), 三角 啓(東京大学), 島本 直伸(東京大学), 落合 幸徳(東京大学), 三田 吉郎(東京大学)

著者名(英語): Akio Higo(The University of Tokyo), Misumi Kei(The University of Tokyo), Shimamoto Nanonobu(The University of Tokyo), Ochiai Yukinori(The University of Tokyo), Mita Yoshio(The University of Tokyo),

キーワード: 電子線描画|HSQ|キャラクタープロジェクション法|ナノディスク|近接効果補正|Electron beam lithography|HSQ|Character projection method|Nanodisk|Proximity effect correction

要約(日本語): 量子ナノ構造の精密配置はナノフォトニクス・ナノフォノニクスにおいて極めて重要である。本研究では世界最小八角形CPのドーズ量によるサイズ依存性を調べた。今後は、面内密度依存性、特に、四角格子と三角格子配列描画におけるナノパターン間の近接効果について調べる。

要約(英語): Precise nanopattern arrangement demands nanophotonics and nanophonics.In this study, we investigate pattern accuracy by using the world's smallest octangular CP. In the future, we will investigate the density dependence, especially the proximity effects between nanopatterns in square and triangular lattice arrays.

PDFファイルサイズ: 310 Kバイト