窒化シリコンによるメタサーフェスホログラムの透過率と回折効率の向上

カテゴリ: 部門大会

論文No: 6P5-PS-12

グループ名: 【E】第40回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2023/10/31

タイトル(英語): Improvement of transmittance and diffraction efficiency of metasurface holograms made of silicon nitride

著者名: 山口 眞和(東京農工大学), 齋藤 洋輝(東京農工大学), 池沢 聡(早稲田大学), 岩見 健太郎(東京農工大学)

キーワード: ホログラム|メタサーフェス|窒化シリコン|誘電体|回折効率|Hologram|metasurface|Silicon nitride|Dielectric|Diffraction Efficiency

要約(日本語): 本研究では、窒化シリコン(SiN)のエッチング条件を最適化することにより、メタサーフェスホログラムの回折効率を最大74.5%まで向上させた。このSiNは、可視域で高い透過率を有しており、本研究では過去にSiNを用いて92%という高い透過率を持つメタサーフェスホログラムを実現している。このことから、SiNを用いることで回折効率と透過率に優れたフルカラーメタサーフェスホログラムが実現できたといえる。

要約(英語): In this study, the diffraction efficiency of metasurface holograms was improved up to 74.5% by optimizing the etching conditions of SiN. This meta-atom material has high transmittance of 92% in the visible range. This indicates that this study realized a full-color metasurface hologram with excellent diffraction efficiency and transmittance by using SiN.

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