カラーレジストへのレーザスキャンによる大量オプトポレーション法の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 6P5-PS-57

グループ名: 【E】第40回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2023/10/31

タイトル(英語): Masssive optoporation using laser scanning on color resist

著者名: 山本 寛文(豊橋技術科学大学), Mishra Aniket(豊橋技術科学大学), 馬込 壮真(豊橋技術科学大学), 岡本 俊哉(豊橋技術科学大学), 柴田 隆行(豊橋技術科学大学), 永井 萌土(豊橋技術科学大学)

キーワード: オプトポレーション|カラーレジスト|レーザ走査|面上パターン|ハイスループット|Optoporation|color resist|laser scanning|planar pattern|high-throughput

要約(日本語): 再生・細胞治療には,細胞内に分子を導入する必要がある.オプトポレーションは分子導入を行う技術である.従来手法では,単一のパルスレーザを単一のマイクロパターンに照射していた.しかし,これではデバイス全体の分子導入率,スループットが低い.本研究では,分子導入率,スループットを向上のため平面パターンを作製し,レーザ走査を行った.また,レーザ走査中の細胞あたりのパルス数を制御し,これによる変化を調査した.

要約(英語): Regenerative medicine require the delivery of molecules into cells. Optoporation is one such molecular delivery technique. In this study, a planar pattern was fabricated and laser scanning was performed. Delivery efficiency and cell viability were evaluated. The number of pulses per cell during laser scanning was controlled and the resulting changes were investigated.

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