MEMS応用を鑑みたAl-O下地層付きSi基板上ネオジム厚膜磁石の開発

カテゴリ: 部門大会

論文No: 7P2-PS-14

グループ名: 【E】第40回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2023/10/31

タイトル(英語): Neodymium thick-film magnets on Si substrates with Al-O underlayers applied to MEMS

著者名: 山口 明華(長崎大学), 加来 響(長崎大学), 山下 昂洋(長崎大学), 柳井 武志(長崎大学), 中野 正基(長崎大学), 福永 博俊(長崎大学)

キーワード: Al-O下地層|MEMS(micro electro mechanical systems)|ネオジム厚膜磁石|PLD法|Si基板|Al?O underlayer|MEMS (micro electro mechanical systems)|Neodymium thick-film magnets|pulsed laser deposition|Si substrate

要約(日本語): 本研究室では,PLD法を用いてSi基板上ガラス下地層付きネオジム厚膜磁石の作製に取り組んできた。しかし,ガラス層では粗大粒の飛散や膜内において空隙が観察された。さらにガラス下地層上の磁石膜のヒステリシスループにおいてくびれが観察され,低い角形性が示されている。本研究では,ガラス下地層に代わりAl-O下地層を使用することによる,粗大粒の飛散の抑制と,角形性の向上について調査したので報告する。

要約(英語): We previously developed thick neodymium films on Si substrates with glass underlayers using pulsed laser deposition (PLD). However, the glass layers had inhomogeneous structures, with voids due to the emission of large particles, making them unsuitable for micromagnetization. Additionally, knicks in hysteresis loop squareness were observed. In this study, we observed reducing large particle emissions and improving hysteresis loop squareness by using an Al-O underlayer.

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