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LIFT法を用いたネオジム系磁石膜の低温創製

LIFT法を用いたネオジム系磁石膜の低温創製

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 8P2-PS-14

グループ名: 【E】第40回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2023/10/31

タイトル(英語): Neodymium film magnets prepared by LIFT technique with low temperature process

著者名: 東 倖主(長崎大学), 福田 樹(長崎大学), 山下 昂洋(長崎大学), 柳井 武志(長崎大学), 福永 博俊(長崎大学), 中野 正基(長崎大学)

キーワード: LIFT法|低温プロセス|Nd-Fe-B系磁石膜|Fe膜|ガルバノミラー|LIFT technique|low-temperature process|Nd-Fe-B film magnets|Fe films|galvanometer mirror

要約(日本語): スパッタリング法で作製した Nd-Fe-B 膜は優れた磁気特性を持つという報告があるが,その際,基板加熱やポストアニリングといった熱処理工程が必要である。本研究では,低温プロセスを用いて Nd-Fe-B 膜を作製した。具体的には,LIFT法を用いて 2 種類(膜・バルク)のターゲットを用い成膜し,更にその試料の基本特性を評価・観察した。加えて,Fe 膜をターゲットとして成膜条件の基礎的なパラメータも確認した。

要約(英語): Despite reports of sputtering-fabricated Nd-Fe-B films having outstanding magnetic properties, the films necessitate an annealing process that includes substrate heating and/or post-annealing. This research prepares Nd-Fe-B films using a low -temperature process.Specifically, we used a laser-induced forward-transfer method that employs two targets (target A, Nd-Fe-B films fabricated using pulsed laser deposition; target B, Nd-Fe-B sintered magnets). We evaluated the basic properties of the films

PDFファイルサイズ: 800 Kバイト

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