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(100)シリコンの2段階異方性ウェットエッチングによる高密度電荷ガイド構造の作製

(100)シリコンの2段階異方性ウェットエッチングによる高密度電荷ガイド構造の作製

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 8P2-PS-18

グループ名: 【E】第40回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2023/10/31

タイトル(英語): Fabrication of High-Density Charge Guide Structures in (100) Silicon by Two-Step Anisotropic Wet Etching

著者名: 稲富 優太郎(立命館大学), 安藤 妙子(立命館大学), 江藤 剛治(大阪大学)

キーワード: |||||||||

PDFファイルサイズ: 748 Kバイト

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