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ノボラック系ポジレジストを エッチングマスクに 使った PDMS パターニング

ノボラック系ポジレジストを エッチングマスクに 使った PDMS パターニング

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 8P2-PS-7

グループ名: 【E】第40回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2023/10/31

タイトル(英語): PDMS patterning using Novolac positive resist as etch mask

著者名: 松本 達也(東北大学), 李 仲民(AAC Technologies), 菊田 利行(東北大学), 鈴木 裕輝夫(東北大学), 田中 秀治(東北大学)

キーワード: PDMSパターニング工法|PDMS RIE|ピエゾアクチュエータ上のPDMS|エッチバックリフトオフ|2段階 RIE|PDMS pattering techniques|PDMS RIE|PDMS on piezo-actuator|etchback-liftoff process|2step RIE

要約(日本語): ノボラック系ポジフォトレジストとRIEによるPDMSフィルムの二つのパターニング工法について,そして,圧電アクチュエータ上のPDMSフィルムのパターニングのためのPt電極上のPDMSフィルムの2段階エッチングプロセスについて報告する。今回開発した薄膜PDMSの加工方法は,新たなアプリケーション向けのMEMS製造への応用が期待できる。

要約(英語): Two patterning methods of PDMS film by Novolac positive photoresist and RIE are reported, and a two-step etching process of PDMS film on Pt electrode on piezoelectric actuators. The patterning of PDMS film on the piezoelectric actuator was possible by two-step etching combining higher etching rate with SF6 etching gas and high selectivity with metal electrode with CF2 etching gas.

PDFファイルサイズ: 515 Kバイト

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