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対向回転放物面鏡投影露光リソグラフィによる任意緩曲面への大パターン形成

対向回転放物面鏡投影露光リソグラフィによる任意緩曲面への大パターン形成

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 26A3-PS-2

グループ名: 【E】第41回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2024/11/18

タイトル(英語): Replication of Rough Patterns on Arbitrarily but Gently Curved Surfaces by Projection Lithography Using a Pair of Faced Paraboloid Mirrors

著者名: 堀内 敏行(東京電機大学), 岩崎 順哉(東京電機大学), 小林 宏史(東京電機大学)

PDFファイルサイズ: 1,653 Kバイト

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