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アニール処理によるスパッタSiC薄膜の透明化および光導波路への応用

アニール処理によるスパッタSiC薄膜の透明化および光導波路への応用

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カテゴリ: 部門大会

論文No: 26A3-PS-92

グループ名: 【E】第41回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2024/11/18

タイトル(英語): Transparency of sputtered SiC thin film by annealing process and its application to optical waveguide

著者名: 新國 広幸(東京工業高等専門学校電気工学科), 本白水 亮(東京工業高等専門学校電気電子工学専攻), 伊藤 浩(東京工業高等専門学校電気工学科)

キーワード: SiC|光導波路|スパッタリング法|アニール処理|透明性

要約(日本語): スパッタSiC薄膜のアニール処理による透明化に関する研究とSiC光導波路の作製を行った。光学バンドギャップ、屈折率、機械的特性等に関してアニール温度依存性を評価し、700 ℃のアニール温度が透明性と硬さの点では優れていることがわかった。本条件でスラブ型SiC光導波路の作製を行い、780 nmの半導体レーザで導波実験に成功した。発表までに、チャネル光導波路の作製、導波実験、伝搬損失の評価を行う。

PDFファイルサイズ: 327 Kバイト

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