(100)シリコンによるピラミッド構造の高密度配置を目指した2段階異方性ウェットエッチングプロセスの検討

カテゴリ: 部門大会

論文No: 26P3-PS-69

グループ名: 【E】第41回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日: 2024/11/18

タイトル(英語): Two-step Anisotropic Wet Etching Process for High-density Arrangement of Pyramid Structures with (100) Silicon

著者名: 稲富 優太郎(立命館大学), 安藤 妙子(立命館大学), 江藤 剛治(立命館大学)

キーワード: 異方性ウェットエッチング|アレイセンサ|受光素子|ピラミッド構造|

要約(日本語): アレイセンサは高感度センシングを実現することが出来る。本研究ではイメージセンサの高感度化を目指し、受光素子の高密度配置を行う。さらに、受光素子においてピラミッド構造は電子の水平移動を抑制することが出来、高速化にも有効である。本報告では異方性ウェットエッチングを利用し、高密度で平滑なピラミッドアレイ構造の作製プロセスを紹介する。

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