PMMA高アスペクト比流路の化学研磨技術

カテゴリ：部門大会

論文No：10P2-C-5

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Chemical vapor polishing techniques for high-aspect ratio flow channels in PMMA

著者名：*青野 宇紀（日立製作所）, 村田 博教（日立ハイテク）, 柴崎 武彦（日立ハイテク）, 福村 真実（日立製作所）, 岩崎 富生（日立製作所）

著者名(英語)：

キーワード：化学研磨,PMMA,ジクロロメタン,吸引,高アスペクト比流路,Chemical vapor polishing,Poly methyl methacrylate,Dichloromethane,Aspiration,High-aspect ratio flow channel

要約(日本語)：流路や反応容器などの機能素子を樹脂内に形成することで,低コスト,ディスポーザブルなシステムの構築を目的として,樹脂に機械加工で高アスペクト比の流路を形成し,有機溶剤の蒸気を導入することで,流路壁面を平滑化した流体デバイスについて検討し,以下の結論を得た。PMMA内に機械加工で形成した高アスペクト比100(長さ 80mm/直径0.8 mm)の流路を減圧して,ジクロロメタン蒸気を導入し,表面粗さをでき,気泡の付着を抑制できた。

要約(英語)：In microfluidic devices, adhesion of bubbles to the walls of flow-channels obstructs flow and chemical reactions. To overcome this problem, this research reports chemical vapor polishing techniques of high-aspect ratio flow-channels in PMMA block.

PDFファイルサイズ：892Kバイト