グラフェン/銅細線パターン積層によるフレキシブル透明電極の開発と応用

カテゴリ：部門大会

論文No：10P4-PS-3

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Graphene-encapsulated Cu-grid flexible transparent conductive electrode and its application

著者名：*黒川 寛也（立命館大学）, 辻 淳喜（立命館大学）, 村田 順二（立命館大学）, 北川 彩貴（立命館大学）, 小林 大造（立命館大学）

著者名(英語)：

キーワード：グラフェン,銅スパッタ薄膜,固相電解加工法,フレキシブル透明電極,薄膜光発電デバイス,graphene,sputter-deposited Cu films,solid state electrochemical imprinting,flexible transparent conducting electrode,thin film photovoltaic device

要約(日本語)：本研究では、ITOに代わる柔軟な透明導電電極として、グラフェン被覆銅微細パターンを開発した。グラフェン薄膜をスパッタ成膜した銅パターン上に積層した。電極は20 Ωの抵抗値、約74%の透過率、および曲げ耐久性を示した。さらに、ZnMgO/Se薄膜太陽電池デバイスへの応用も実証した。

要約(英語)：In this study, we developed graphene-coated copper micro-patterns as flexible transparent conductive electrodes to replace ITO. Graphene thin films were stacked onto copper patterns deposited by sputtering. The electrodes exhibited a resistance of 20 Ω, a transmittance of approximately 74%, and bending durability. Furthermore, we demonstrated their application in ZnMgO/Se thin-film solar cell devices.

PDFファイルサイズ：968Kバイト