De-embedding 技術を用いた磁性薄膜インピーダンスの高精度評価

カテゴリ：部門大会

論文No：10P4-PS-89

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Accurate characterization of magnetic thin-film impedance by means of de-embedding techniques

著者名：*早坂 淳一（電磁材料研究所）, 吉田 信 （シーデックス）

著者名(英語)：

キーワード：磁気センサ,強磁性共鳴,ミリ波帯高周波特性,De-embedding技術,インピーダンス抽出,Magnetic sensor,Ferromagnetic resonance,Millimeter-wave high-frequency characteristics,De-embedding technique,Impedance extraction

要約(日本語)：マイクロ波帯強磁性共鳴を利用した磁気センサの高周波特性を高精度に評価するため、VNAによるDe-embedding技術を適用した。MEGTRON6基板上のCoFeSiB薄膜をGCPW構造に形成し、Sパラメータ差分解析によりコネクタや基板の不整合によるノイズを低減し、磁性薄膜固有のインピーダンスを正確に抽出した。3.48 GHzで強磁性共鳴を確認し、高感度磁気センサ設計への有効性を示した。

要約(英語)：To precisely evaluate the high-frequency characteristics of microwave ferromagnetic resonance sensors, a VNA-based de-embedding technique was applied. Using a CoFeSiB thin film on a MEGTRON6 GCPW, connector and substrate mismatches were minimized, enabling accurate impedance extraction and clear detection of ferromagnetic resonance at 3.48 GHz.

PDFファイルサイズ：503Kバイト