マイクロ流体デバイスに向けた感光性ドライフィルムレジストによる複雑な多層構造体の作製方法の開発

カテゴリ：部門大会

論文No：11A3-PS-4

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Photosensitive Dry Film Resist Process for Multilayer Microstructure Fabrication in Microfluidic Devices

著者名：*河本 直樹（日本化薬）, 箱根 吉浩（日本化薬）

著者名(英語)：

キーワード：マイクロ流体デバイス,感光性ドライフィルムレジスト,多層構造体,接合材料,低細胞毒性,Microfluidics Device,Photosensitive Dry Film Resist,Multilayer Structure,Bonding Material,Low Cytotoxicity

要約(日本語)：本論文では、感光性ドライフィルムレジストを用いた複雑な多層構造体の作製方法の開発を行った。感光性ドライフィルムレジストとしては、低細胞毒性であり、接合プロセスを適用可能なKPM-500 DFRを選択した。KPM-500 DFRは複雑なマイクロ流路の作製に適用することができ、特に多層構造体の作製において特徴的な構造体を複数作製することに成功した。この製造方法は、今後のマイクロ流体デバイス向けのマイクロ流路の発展に寄与できるものである。

要約(英語)：This study presents a simplified fabrication method for multilayer microstructures using KPM-500 dry film resist, which offers low cytotoxicity and bonding compatibility. The method successfully produced complex and unique structures, contributing to the advancement of microfluidic device technologies.

PDFファイルサイズ：367Kバイト