電気化学反応における表面修飾分子依存性

カテゴリ：部門大会

論文No：11A3-PS-48

グループ名：【E】第42回「センサ・マイクロマシンと応用システム」シンポジウム

発行日：2025/11/3

タイトル(英語)：Molecular Dependence of Surface Modification in Electrochemical Reactions

著者名：*田畑 幸太（東洋大学）, 原田 栞大郎（東洋大学）, Almuraikhi Shaikha（東洋大学）, 山口 明啓（東洋大学）

著者名(英語)：

キーワード：電気化学表面増強ラマン分光,サイクリックボルタンメトリー,表面修飾,4,4’ビピリジン,金ナノコーラル電極,Electrochemical Surface-Enhanced Raman Spectroxcop,Cycliec voltammetry,surface modifications,4.4’-Bipridine,Gold nano coal Electrodes

要約(日本語)：EC-SERSマイクロチップでCu²⁺溶液中の表面修飾を、CVとラマン(出現有無・位置)で評価。未修飾は指標帯なし、4bpyで約1000/1600cm⁻¹が出現。4bpyは1〜1000μMで電位ほぼ不変、10mMで還元側シフト。2,6PDC/4PCAで肩、2PCAは出にくい。強度に依存しない判定により設計指針を示す。

要約(英語)：Using an EC-SERS microchip, we evaluate surface-modification effects on Cu2+ electrochemistry by CV and Raman, judging peak presence and position. Unmodified shows no bands; 4bpy yields bands near 1000 and 1600 cm-1. CV peaks unchanged at 1-1000 uM, shift at 10 mM; shoulders for 2,6PDC and 4PCA, rare for 2PCA.

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